小型真空電弧爐利用電極電弧產(chǎn)生的高溫熔煉礦石和金屬的電爐。氣體放電形成電弧時(shí)能量很集中，弧區(qū)溫度在3000℃以上。對(duì)于熔煉金屬，電弧爐比其他煉鋼爐工藝靈活性大，能有效地除去硫、磷等雜質(zhì)，爐溫容易控制，設(shè)備占地面積小，適于優(yōu)質(zhì)合金鋼的熔煉。

小型真空電弧爐需要注意的問(wèn)題

1． 總電源閘，循環(huán)水閥門(mén)是開(kāi)爐前打開(kāi)，后關(guān)閉的。一定要注意在啟動(dòng)設(shè)備之前檢查循環(huán) 水閥門(mén)有沒(méi)有打開(kāi)，嚴(yán)緊在沒(méi)有循環(huán)水的狀態(tài)下啟動(dòng)設(shè)備。

2． 整個(gè)設(shè)備操作過(guò)程涉及的開(kāi)關(guān)和按鈕較多，特別是抽真空的過(guò)程比較復(fù)雜，但是有一定 的規(guī)律可循，即：機(jī)械泵對(duì)應(yīng)機(jī)械泵電源開(kāi)關(guān)和爐體閥門(mén)，分子泵對(duì)應(yīng)分子泵電源開(kāi)關(guān)（包括“開(kāi)啟"“關(guān)閉"兩個(gè)按鈕）和分子泵閥門(mén)。 控制柜循環(huán)水開(kāi)關(guān)，設(shè)備的電源開(kāi)關(guān)在整個(gè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程中是一直處在開(kāi)啟狀態(tài)的。 抽真空為兩級(jí)抽真空，di一級(jí)抽真空利用機(jī)械泵抽，二級(jí)抽真空利用分子泵抽。 在di一級(jí)抽真空的過(guò)程中處在開(kāi)啟狀態(tài)的開(kāi)關(guān)和閥門(mén)為：機(jī)械泵電源開(kāi)關(guān)，爐體閥門(mén)。處在關(guān)閉狀態(tài)的開(kāi)關(guān)和閥門(mén)為：分子泵對(duì)應(yīng)分子泵電源開(kāi)關(guān)（包括“開(kāi)啟"“關(guān)閉"兩個(gè)按鈕）和分子泵閥門(mén)。

在二級(jí)抽真空的過(guò)程中處在開(kāi)啟狀態(tài)的開(kāi)關(guān)和閥門(mén)為：分子泵對(duì)應(yīng)分子泵電源開(kāi)關(guān)（包括“開(kāi)啟"“關(guān)閉"兩個(gè)按鈕）和分子泵閥門(mén)。處在關(guān)閉狀態(tài)的開(kāi)關(guān)和閥門(mén)為：機(jī)械泵電源開(kāi)關(guān)，爐體閥門(mén)。 注意在di一級(jí)抽真空到二級(jí)抽真空的過(guò)渡時(shí)先運(yùn)行分子泵，然后關(guān)閉機(jī)械泵。

3. 往坩堝中放入熔煉金屬的時(shí)候注意較大塊的金屬放在上面壓住小塊的金屬，防止被小塊 金屬被電弧吹走造成合金成分與設(shè)計(jì)不符。

4. 在di一級(jí)抽真空的過(guò)程中注意擰緊爐體上緊固件和爐體模具通道處的密封蓋

一·產(chǎn)品簡(jiǎn)介

 微型電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設(shè)備采用桌面式結(jié)構(gòu)，占地空間小。

二、產(chǎn)品特點(diǎn)

1、采用高純氬氣保護(hù)，熔煉溫度可達(dá)3500℃

2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少

3、水冷銅電極可移動(dòng)，可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品

4、水冷銅坩堝多工位設(shè)計(jì)，一次可熔多個(gè)樣品

5、采用真空計(jì)測(cè)量真空，測(cè)量準(zhǔn)確真實(shí)。

6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

7、桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源

三·功能參數(shù)：

1·樣品熔煉量：5-20g;

2·熔煉電流：250A;

3·熔煉溫度：0-3500℃，滿(mǎn)足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)要求;

4·真空度：≦ 5pa ~ 6.7*10-4pa可選（冷態(tài)極限真空）

5·熔煉電極：電極水冷，自由移動(dòng)，操作靈活;

6·熔煉坩堝：標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有五個(gè)10*φ20半球形工位；

另可根據(jù)客戶(hù)要定做

7·整機(jī)尺寸：wxdxh(350x450x650)mm;

8·電源：220v/50/60HZ/兩相供電;(根據(jù)電源功率定）